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硅片去层作业：⑴、碱洗去层：在反应容器中配制20-40%的氢氧化钠溶液为腐蚀溶液，将硅片加入碱锅里进行腐蚀，根据硅片的结深确定腐蚀时间，一般为30---120秒。用漏勺捞起看硅料表面是否光亮无杂质。,⑵、冲洗残碱：在冲洗槽中将硅片上附着的残···
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